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1200℃雙溫區開啟式管式爐以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構,智能化程序控溫系統，可控硅控制，控溫精度高；內置兩個溫區，可以營造不同的溫度梯度。雙層爐殼間配有風冷系統，有效降低爐殼表面溫度；結合我司標準真空、混氣系統，可抽真空通氣氛。

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1700℃三溫區管式爐采用智能化自動控溫系統、可控硅控制，控溫精度高；內置三個溫區，可以營造不同的溫度梯度；雙層爐殼間配有風冷系統，有效降低爐殼表面溫度；采用真空級法蘭密封，結合我司標準真空、混氣系統，可抽真空通氣氛。

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1700℃雙溫區管式爐，采用雙層殼體結構，智能化自動控溫系統、可控硅控制，控溫精度高；內置兩個溫區，可營造不同的溫度梯度；結合我司標準真空、混氣系統，可抽真空通氣氛。

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1400℃三溫區真空管式爐，采用智能化程序溫控系統，可控硅控制，控溫精度高；高真空級法蘭密封，結合我司標準真空、混氣系統，可抽真空通氣氛；以優質硅碳棒為加熱元件，采用智能化控溫系統，可控硅控制，控溫精度高。

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1400度雙溫區精密真空管式爐 用于高校、科研院所、工礦企業在真空或氣氛環境下做粉末焙燒、陶瓷燒結、高溫實驗、材料處理、質量檢測之用。

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1200℃氫氣管式爐是專門針對于材料在氫氣環境下進行燒結爐。氫氣進口采用電磁閥與針閥做雙重保護，配備氫氣探測器監測實驗環境的安全性，提高了實驗的安全性。